Hexamethyldisiloxaan

Hexamethyldisiloxaan (afgekort als HMDS of HMDSO) is een chemische verbinding uit de groep van siloxanen; het is het kortste, gealkyleerde, siloxaan. Het is een kleurloze, licht ontvlambare, vluchtige vloeistof. De damp kan een explosief mengsel met lucht vormen (tussen 0,5 en 21,8 volumepercent HMDS).

Hexamethyldisiloxaan
Structuurformule en molecuulmodel
Structuurformule van hexamethyldisiloxaan
Algemeen
Molecuulformule
     (uitleg)		C6H18OSi2
IUPAC-naamHexamethyldisiloxaan
Molmassa162,38 g/mol
SMILES
O([Si](C)(C)C)[Si](C)(C)C
InChI
1S/C6H18OSi2/c1-8(2,3)7-9(4,5)6/h1-6H3
CAS-nummer107-46-0
EG-nummer203-492-7
PubChem24764
Beschrijvingkleurloze vloeistof met kenmerkende geur
Waarschuwingen en veiligheidsmaatregelen
Gevaar
H-zinnenH225
EUH-zinnengeen
P-zinnenP210
VN-nummer1993
Fysische eigenschappen
Aggregatietoestandvloeibaar
Kleurkleurloos
Dichtheid0,76 g/cm³
Smeltpunt−59 °C
Kookpunt99 °C
Vlampunt4 °C
Zelfontbrandings- temperatuur340 °C
Dampdruk(bij 20°C) 2000 Pa
Onoplosbaar inwater
Waar mogelijk zijn SI-eenheden gebruikt. Tenzij anders vermeld zijn standaardomstandigheden gebruikt (298,15 K of 25 °C, 1 bar).
Portaal    Scheikunde

Synthese

Hexamethyldisiloxaan wordt gevormd door de hydrolysereactie van trimethylchloorsilaan.

Het wordt ook bekomen in de farmaceutische industrie als nevenproduct van silyleringsreacties, die uitgevoerd worden met trimethylchloorsilaan of hexamethyldisilazaan bij de synthese van antibiotica zoals penicilline en cefalosporine. Het ontstaat daar bij de verwijdering van beschermende groepen die bij de silylering zijn aangebracht.

Toepassingen

HMDS is een intermediaire stof in chemische syntheses, bijvoorbeeld als trimethylsilylgroepdonor. Het wordt toegepast in de productie van siliconenrubber om de aangroei van de polysiloxaanketens te stoppen. Het wordt ook gebruikt als oplosmiddel en als ingrediënt in cosmetische crèmes en lotions en in schoonmaakmiddelen.

HMDS kan ook gebruikt worden om een siliciumdioxidelaagje op een geïntegreerde schakeling aan te brengen in plasma-enhanced chemical vapor deposition; hierbij ontstaat het SiO2 door de reactie van gasvormig HMDS met ozon.[1]

This article is issued from Wikipedia. The text is licensed under Creative Commons - Attribution - Sharealike. Additional terms may apply for the media files.